產(chǎn)品時(shí)間：2024-08-29
訪(fǎng)問(wèn)量：812
廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
生產(chǎn)地址：
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
實(shí)驗(yàn)室硅酸根分析儀 型號(hào):XN84GXF-215C
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍 0~199.9μg/LSiO2
基本誤差≤±2.5%FS
重復(fù)性誤差≤±0.5%FS
短期漂|移（30分鐘） ： ≤±0.5%FS
長(zhǎng)|期|漂|移(24小時(shí)） ： ≤±2.5%FS
化學(xué)方法 ：硅鉬蘭光度法GB 12150—89
實(shí)驗(yàn)室硅酸根分析儀 型號(hào):XN84GXF-215C
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍 0~199.9μg/LSiO2
基本誤差≤±2.5%FS
重復(fù)性誤差≤±0.5%FS
短期漂|移（30分鐘） ： ≤±0.5%FS
長(zhǎng)|期|漂|移(24小時(shí)） ： ≤±2.5%FS
化學(xué)方法 ：硅鉬蘭光度法GB 12150—89
實(shí)驗(yàn)室硅酸根分析儀 型號(hào):XN84GXF-215C
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍 0~199.9μg/LSiO2
基本誤差≤±2.5%FS
重復(fù)性誤差≤±0.5%FS
短期漂|移（30分鐘） ： ≤±0.5%FS
長(zhǎng)|期|漂|移(24小時(shí)） ： ≤±2.5%FS
化學(xué)方法 ：硅鉬蘭光度法GB 12150—89
